首页 - 专利发明 - 附属

文献摘要

如需“文献摘要”全文,请与吕方联系, 电话:(010)64034804、64030431 传真:(010)64068094

聚四氟乙烯膜材应用

恒流电晕充电对聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体驻极态的影响

  【编 号】2004-87
  【篇 名】恒流电晕充电对聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体驻极态的影响
  【摘 要】利用常温下恒流和恒压电晕充电、充电后的等温表面电位衰减、热刺激放电和扫描电镜等实验手段研究了恒流和恒压电晕充电技术对聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体驻极态的影响.与恒压电晕充电相比较,恒流电晕充电时由于流过薄膜的电流恒定,增加了注入电荷在多孔结构厚度方向界面处的俘获概率,使沉积电荷密度上升,改善了驻极体的储电能力.然而,这些位于不同层深多孔界面处的俘获电荷在这类功能膜储存或使用过程中,经外激发从脱阱位置以跳动(hopping)模式输运至背电极的路径相对缩短将导致脱阱电荷衰减较快